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北京高纯金属,溅射靶材,金属靶材,蒂姆(北京)新材料有限公司

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品牌: 蒂姆新材料
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更新: 2020-07-27 11:55
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公司基本资料信息
 
 

ITO薄膜是一种n型半导体材料,具有高的导电率、高的可见光透过率、高的机械硬度和良好的化学稳定。

掺锡氧化铟(IndiumTinOxide),一般简称为ITO。因此,它是液晶显示器(LCD)、等离子显示器(PDP)、电致发光显示器(EL/OLED)、触摸屏(TouchPanel)、太阳能电池以及其他电子仪表的透明电极常用的薄膜材料。

ITO,氧化铟掺杂氧化锡

常规比例:

ITO In2O3:SnO2=90:10 wt%;

ITO In2O3:SnO2=95:5 wt%;

主要产品:

1、ITO 靶材 99.99%

常规尺寸:50*3mm;60*4mm;100*3mm尺寸可定做

用途:磁控溅射镀膜


2、ITO 颗粒 99.99%

常规尺寸:1-3mm;3-5mm

用途:蒸发镀膜;电极薄膜等


3、ITO 圆片 99.99%

常规尺寸:18*10mm;25*10mm等,尺寸可定做

用途:电子束蒸发镀膜,红外薄膜。


蒂姆(北京)新材料科技有限公司

            沈光蕙  经理


主营产品:溅射靶材、蒸发膜料、贵金属、稀土材料、合金块材等

通讯地址:北京市丰台区西三环南路201号融达国际1号楼1210室

电       话:010-56073481

手       机:18201317600

Q        Q:2516860964
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Mg-T3553 镁 靶材 99.95% φ76.2*3mm 磁控溅射镀膜
Cu-T4515 铜 靶材 99.995% φ50*5mm 磁控溅射镀膜
Ni-T4572 镍 靶材 99.995% φ100*2mm 磁控溅射镀膜
Fe-T3551 铁 靶材 99.95% φ76.2*1mm 磁控溅射镀膜
Co-T3522 钴 靶材 99.95% φ50.8*2mm 磁控溅射镀膜
Bi-T4034 铋 靶材 99.99% φ60*4mm 磁控溅射镀膜
Sb-T4054 锑 靶材 99.99% φ76.2*4mm 磁控溅射镀膜
Se-T4063 硒 靶材 99.99% φ80*3mm 磁控溅射镀膜
C-T4025 石墨 靶材 99.99% φ50.8*5mm 磁控溅射镀膜
V-T3035 钒 靶材 99.9% φ60*5mm 磁控溅射镀膜
W-T3515 钨 靶材 99.95% φ50*5mm 磁控溅射镀膜
Mo-T35A5 钼 靶材 99.95% φ25.4*5mm PLD溅射镀膜
Nb-T35A3 铌 靶材 99.95% φ25.4*3mm PLD溅射镀膜
Y-T30A6 钇 靶材 99.9% φ25.4*6mm PLD溅射镀膜
Ce-T30A4 铈 靶材 99.9% φ25.4*4mm PLD溅射镀膜

 
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