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金颗粒_高纯金颗粒 高纯金粒，蒂姆新材料贵金属靶材
金，俗称金，是一种过渡金属，金是延及展高的金属。其化学质不活泼，是不活泼的金属元素。
导热系数：320 W/m.K
蒸发温度(°C)：1,064
热膨胀系数：14.2 x 10-6/K
理论密度(g/cc)：19.3
比例：0.381
金的块体材料的电阻率：2.05×10^-8(Ω•m)
应用：高纯金在电子行业中有着广泛应用。99.99%-99.999%，广泛应用于镀膜领域、熔炼领域。
二、主要产品
1、金 颗粒 99.999% (点击查看详情）
常规尺寸：3*6mm；3*4mm；尺寸可定做
应用：热蒸发、电子束蒸发
2、金 靶材 99.99%(点击查看详情）
常规尺寸：25.4*1mm；50*3mm；100*4mm；尺寸可定做
应用：磁控溅射镀膜
3、SEM金靶材 99.99% (点击查看详情）
常规尺寸：57*0.1mm；57*0.2mm；58*0.1mm；58*0.2mm；尺寸可定做
应用：扫描电镜SEM设备
4、金 丝 99.999% (点击查看详情）
常规尺寸：1mm；0.5mm；3mm等；尺寸可定做
应用：热蒸发等
5、键合金丝 99.99% (点击查看详情）
常规尺寸：0.025mm；0.050mm；0.030mm等，尺寸可定做
应用：LED半导体封装
6、金 锭 99.99%
常规尺寸：50g；100g；1kg
应用：合金熔炼行业等
7、金 箔片 99.99%
常规尺寸：100*100*0.2mm等，尺寸可定做
应用：蒸镀、熔炼等
蒂姆（北京）新材料科技有限公司
沈光蕙 经理
主营产品：溅射靶材、蒸发膜料、贵金属、稀土材料、合金块材等
通讯地址：北京市丰台区西三环南路201号融达国际1号楼1210室
电 话：010-56073481
手 机：18201317600
Q Q：2516860964
| 单质镀膜材料---蒂姆新材料 | |||
| 产品编码 | 产品名称 | 规格 | 应用 |
| Au-W5004 | 金 丝 | 99.999% φ1mm | 热蒸发镀膜 |
| Al-W5004 | 铝 丝 | 99.999% φ1mm | 热蒸发镀膜 |
| Ag-W4004 | 银 丝 | 99.99% φ1mm | 热蒸发镀膜 |
| Cr-G3501 | 铬 颗粒 | 99.95% 1-3mm | 电子束镀膜 |
| Ti-G4533I | 钛 颗粒 | 99.995% φ3*3mm | 电子束镀膜 |
| Ni-G4533I | 镍 颗粒 | 99.995% φ3*3mm | 电子束镀膜 |
| Ge-G5006 | 锗 颗粒 | 99.999% 3-6mm | 电子束镀膜 |
| Hf-G3525 | 铪 颗粒 | 99.95% φ2*5mm | 电子束镀膜 |
| Zr-G3525 | 锆 颗粒 | 99.95% φ2.4*5mm | 电子束镀膜 |
| Au-G5034 | 金 颗粒 | 99.999% φ3*4mm | 热蒸发、电子束镀膜 |
| Pt-G4028 | 铂 颗粒 | 99.99% φ2*8mm | 热蒸发、电子束镀膜 |
| Ag-G4025 | 银 颗粒 | 99.99% φ2*5mm | 热蒸发、电子束镀膜 |
| Pd-G3525 | 钯 颗粒 | 99.95% φ2*5mm | 热蒸发、电子束镀膜 |
| Al-G5033 | 铝 颗粒 | 99.999% φ3*3mm | 热蒸发、电子束镀膜 |
| S-G5003 | 硫 颗粒 | 99.999% 1-6mm | 热蒸发、电子束镀膜 |
| In-G4503 | 铟 颗粒 | 99.995% 1-6mm | 热蒸发、电子束镀膜 |
| Au-T4007 | SEM金 靶材 | 99.99% φ57*0.1mm | SEM电镜镀膜 |
| Pt-T4007 | SEM铂 靶材 | 99.99% φ57*0.1mm | SEM电镜镀膜 |
| Pd-T3513 | 钯 靶材 | 99.95% φ50*3mm | 磁控溅射镀膜 |
| Al-T5014 | 铝 靶材 | 99.999% φ50*4mm | 磁控溅射镀膜 |
| Ti-T4533 | 钛 靶材 | 99.995% φ60*3mm | 磁控溅射镀膜 |
| Cr-T3535 | 铬 靶材 | 99.95% φ60*5mm | 磁控溅射镀膜 |
| Mg-T3553 | 镁 靶材 | 99.95% φ76.2*3mm | 磁控溅射镀膜 |
| Cu-T4515 | 铜 靶材 | 99.995% φ50*5mm | 磁控溅射镀膜 |
| Ni-T4572 | 镍 靶材 | 99.995% φ100*2mm | 磁控溅射镀膜 |
| Fe-T3551 | 铁 靶材 | 99.95% φ76.2*1mm | 磁控溅射镀膜 |
| Co-T3522 | 钴 靶材 | 99.95% φ50.8*2mm | 磁控溅射镀膜 |
| Bi-T4034 | 铋 靶材 | 99.99% φ60*4mm | 磁控溅射镀膜 |
| Sb-T4054 | 锑 靶材 | 99.99% φ76.2*4mm | 磁控溅射镀膜 |
| Se-T4063 | 硒 靶材 | 99.99% φ80*3mm | 磁控溅射镀膜 |
| C-T4025 | 石墨 靶材 | 99.99% φ50.8*5mm | 磁控溅射镀膜 |
| V-T3035 | 钒 靶材 | 99.9% φ60*5mm | 磁控溅射镀膜 |
| W-T3515 | 钨 靶材 | 99.95% φ50*5mm | 磁控溅射镀膜 |
| Mo-T35A5 | 钼 靶材 | 99.95% φ25.4*5mm | PLD溅射镀膜 |
| Nb-T35A3 | 铌 靶材 | 99.95% φ25.4*3mm | PLD溅射镀膜 |
| Y-T30A6 | 钇 靶材 | 99.9% φ25.4*6mm | PLD溅射镀膜 |
| Ce-T30A4 | 铈 靶材 | 99.9% φ25.4*4mm | PLD溅射镀膜 |
