金靶材,又称金靶材由高纯度金锭熔炼制备而成,适用于溅射镀膜、SEM喷金镀膜等,在半导体芯片、MEMS传感器、光电器件、宽禁带半导体、石墨烯等行业领域应用广泛。
1,适用溅射设备品牌
适用设备:单靶溅射系统,双靶溅射系统,JC500型磁控溅射仪,DE300DL 磁控溅射系统
适用设备品牌:
国产品牌:南光机器厂、北京仪器厂、金盛微纳、沈阳科仪、JK-LASKER、微电子所等品牌
进口品牌:美国MRC,CVC、Varian公司等品牌
常规尺寸:
1.直径:1英寸,2英寸,3英寸,4英寸,5英寸等不同直径
2.厚度:1mm,2mm,3mm,4mm等尺寸可定做
2,适用SEM电镜喷金设备
适用设备:日立JFC-1100和JFC-1600,ETD-2000C等型号
适用设备品牌:LEICA,日立,中科仪等型号
常规尺寸:57*0.1mm;57*0.2mm;58*0.1mm;58*0.2mm等
3,金靶材huishou
金靶材溅射打穿后可提供回shou再加工服务,提高靶材利用率、科学环保,节省科研成本。
回shou详细信息参见“贵金属回shou再加工说明”
4,产品详细价格
贵金属金材料均以上海金交易所价格为基准。
产品名称 |
规格型号 | 包装 | 单价 | 交货期 | 备注 |
金 靶材 117.48g |
>99.99% 50.8*3mm | 片 | 320/g | 2-3个工作日 | 按订购当天金价 |
金 靶材
109.25g |
>99.99% 60*2mm | 片 | 320/g | 5-7个工作日 | 按订购当天金价 |
金 靶材 264.32g |
>99.99% 76.2*2mm | 片 | 305/g | 5-7个工作日 | 按订购当天金价 |
SEM金靶材 |
>99.99% 57*0.1mm; >99.99% 58*0.1mm |
片 |
2500 |
7-10个工作日 |
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SEM金靶材 |
>99.99% 57*0.2mm; >99.99% 58*0.2mm |
片 | 4000 | 7-10个工作日 |
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更多规格、更多型号产品,可咨询客服电话010-56073481;QQ2380702353。 |
Mg-T3553 | 镁 靶材 | 99.95% φ76.2*3mm | 磁控溅射镀膜 |
Cu-T4515 | 铜 靶材 | 99.995% φ50*5mm | 磁控溅射镀膜 |
Ni-T4572 | 镍 靶材 | 99.995% φ100*2mm | 磁控溅射镀膜 |
Fe-T3551 | 铁 靶材 | 99.95% φ76.2*1mm | 磁控溅射镀膜 |
Co-T3522 | 钴 靶材 | 99.95% φ50.8*2mm | 磁控溅射镀膜 |
Bi-T4034 | 铋 靶材 | 99.99% φ60*4mm | 磁控溅射镀膜 |
Sb-T4054 | 锑 靶材 | 99.99% φ76.2*4mm | 磁控溅射镀膜 |
Se-T4063 | 硒 靶材 | 99.99% φ80*3mm | 磁控溅射镀膜 |
C-T4025 | 石墨 靶材 | 99.99% φ50.8*5mm | 磁控溅射镀膜 |
V-T3035 | 钒 靶材 | 99.9% φ60*5mm | 磁控溅射镀膜 |
W-T3515 | 钨 靶材 | 99.95% φ50*5mm | 磁控溅射镀膜 |
Mo-T35A5 | 钼 靶材 | 99.95% φ25.4*5mm | PLD溅射镀膜 |
Nb-T35A3 | 铌 靶材 | 99.95% φ25.4*3mm | PLD溅射镀膜 |
Y-T30A6 | 钇 靶材 | 99.9% φ25.4*6mm | PLD溅射镀膜 |
Ce-T30A4 | 铈 靶材 | 99.9% φ25.4*4mm | PLD溅射镀膜 |