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说明
砷化镓蚀刻剂可以对砷化镓以三元化合物如砷化镓铟和砷化铝镓等进行各向同性及各向异性的蚀刻。和二氧化硅光掩膜联用可以得到清晰和均匀的蚀刻效果。
共提供三个蚀刻剂体系。其中GA蚀刻剂100是快速的各项同性蚀刻剂。GA蚀刻剂200是可最佳控制的碱性各项异性蚀刻剂。GA蚀刻剂300具有更大的通用性、更宽的光刻胶匹配性的更长的贮存时间限制。所有GA蚀刻剂都应在温度较低的条件下贮存。
性质
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性质 |
GA蚀刻剂100 |
GA蚀刻剂200 |
GA蚀刻剂300 |
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外观 |
无色澄清液体 |
无色澄清液体 |
无色澄清液体 |
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PH |
＜2 |
＞10 |
6-7 |
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贮存温度 |
40-50℉ |
40-50℉ |
40-50℉ |
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有效期 |
3个月 |
2个月 |
3个月 |
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蚀刻速率 |
100nm/秒，40℃ |
20 Å /秒，5℃ |
22 Å /秒，25℃ |
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化学 |
硫酸－过氧化物 |
氢氧化物-过氧化物 |
柠檬酸-过氧化物 |
应用
化学试剂http://www.echem360.com/
