二氧化硅蚀刻剂

高纯加缓冲剂的HF蚀刻剂适合用于热生长或沉积二氧化硅膜。Transene二氧化硅蚀刻剂是边下蚀低，匹配性广的理想半导体蚀刻剂。

缓冲剂－HF

对热生长二氧化硅膜有最快的蚀刻速率，同时也适合用于沉积SiO2膜。

加缓冲剂的蚀刻剂

氟化铵：HF＝4:1，5:1，6:1，7:1，10:1或按客户要求调配其比例。

BD蚀刻剂

其为二氧化硅玻璃（PSG）和硼硅玻璃（BSG）的浸泡蚀刻剂。蚀刻速率随着此两种玻璃组成的变化而变化。

氧化硅蚀刻剂

化学试剂http://www.echem360.com/