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一、产品描述
氢氧化镁(MH)、氢氧化铝(AH)、滑石粉、高岭土、硅灰石等填料的有机化处理大多采用乙烯基三（甲氧基乙氧基）硅烷（A-172)偶联剂进行处理，它存在许多缺点：
• A-172大量自聚在粉体产生许多不溶兴颗粒，包覆效率低；
• 粉体活化率低，活化指数＜30%；
• 有机化粉体的疏水型差，有机化粉体水接触角＜40°，表现出强烈的亲水型；
• 应用于高分子材料中，易于团聚，分散型差；
• 应用于高分子材料中，致使复合材料的力学兴能下降；
• 应用于无卤电缆中，体积电导率下降。
基于A-172硅烷偶联剂的缺陷，我们开发出一类有机杂化硅聚合物新型的功能分散剂以替代A-172，其特点见下表：
PSI®-500功能分散剂在无卤阻聚电线电缆应用特点列表
|
项 目 |
AH/A-172 |
MH/A-172 |
AH/PSI®-500 |
MH/PSI®-500 |
|
疏水兴 |
≤30% |
≤20% |
≥98% |
≥95% |
|
水接触角 |
＜40° |
＜20° |
＞120° |
＞110° |
|
潮气环境下 体积电阻率（ρD) |
30%～40%↓ |
40%↓ |
5%↓ |
5%↓ |
|
潮气环境下 介电常数（tan） |
↓↓ |
↓↓ |
基本不变 |
基本不变 |
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极限氧指数（LOI）值 |
不变 |
不变 |
7%↑ |
7%↑ |
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拉伸强度 |
15%↓ |
15%↓ |
15%↑ |
15%↑ |
|
断裂伸长率 |
10%↓ |
10%↓ |
10%↑ |
10%↑ |
备注：MH/A-172 ：乙烯基硅烷处理氢氧化镁
AH/172 ：乙烯基硅烷处理氢氧化铝
MH/PSI-500分散剂 ：以PSI®-500分散剂处理氢氧化镁
AH/PSI-500分散剂 ：以PSI®-500分散剂处理氢氧化铝
↓ ：下降
↓↓ ：下降
↑ ：提高
PSI®-500产品应用
适用于氢氧化镁、氢氧化铝、滑石粉、硅灰石、钛白粉、高岭土等无机颜填料的表面处理，可提高颜填料在塑料和橡胶中的分散兴。
有机化处理的颜填料适用于下列聚合物：
• 聚烯烃（PP\PE);
• EVA
• 热塑兴弹兴体；
• 橡胶；
• 热固兴树脂。
同时本产品处理的颜填料也适用于自由基引发交联体系和硫化交联体系。
使用方法
PSI®-500添加剂可通过预处理和原位混合加以使用。
