原位薄膜应力测试仪

原位薄膜应力测试仪采用非接触激光MOS所有阵列的激光光点始终在同一频率运动或扫描，从而有效的避免了外界振动对测试结果的影响；同时提高了测试的分辨率；适合各种材质和厚度薄膜应力分析；
典型用户：Harvard University 2套，Stanford University，Johns Hopkins University，Brown University 2套，Karlsruhe Research Center,Max Planck Institute，西安交通大学，中国计量科学院等、半导体和微电子制造商（如IBM.，Seagate Research Center,Phillips Semiconductor,NEC，Nissan ARC,Nichia Glass Corporation）等所采用；
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薄膜应力仪（kSA MOS 薄膜应力测量仪）：为独立测量系统，同样采用多光束MOS技术，详细信息请与我们联系。
设备名称：
原位薄膜应力测量系统，原位薄膜应力测试仪，原位薄膜应力计，薄膜应力仪，kSA MOS Film Stress Tester, kSA MOS Film Stress Measurement System;
主要特点：
1.MOS 多光束传感器技术；
2.单Port(样品正上方)和双Port(对称窗口)系统设计；
3.适合MOCVD, MBE, Sputter，PLD、蒸収系统等各种真空薄膜沉积系统以及热处理设备等；
4.薄膜应力各向异测试和分析功能；
5.生长速率和薄膜厚度测量；（选件）
6.光学常数n&k 测量；（选件）
7.多基片测量功能；（选件）
8.基片旋转测量功能；（选件）
9.实时光学反馈控制技术，系统安装时可设置多个测试点；
10.专业设计免除了测量丌受真空系统振动影响；
测试功能：
1.实时原位薄膜应力测量
2.实时原位薄膜曲率测量
3.实时原位应力*薄膜厚度曲线测量
4.实时原位薄膜生长全过程应力等
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