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用于工业污垢清洗的化学制剂，一般应满足下述的技术要求。用于不同的清洗目的与清洗对象的工业清洗剂，对于这些要求可以有所侧重或取舍。
1、 清洗污垢的速度快，溶垢彻底。清洗剂自身对污垢有很强的反应、分散或溶解清除能力，在有限的工期内，可较彻底地除去污垢。
2、 对清洗对象的损伤应在生产许可的限度内，对金属可能造成的腐蚀有相应的抑制措施。
3、 清洗所用药剂便宜易得，并立足于国产化；清洗成本低，不造成过多的资源消耗。
4、 清洗剂对生物与环境无毒或低毒，所生成的废气，废液与废渣，应能够被处理到符合国家相关法规的要求。
5、 清洗条件温和，尽量不依赖于附加的强化条件，如对温度、压力、机械能等不需要过高的要求。
6、 清洗过程不在清洗对象表面残留下不溶物，不产生新污溃，不形成新的有害于后续工序的覆盖层，不影响产品的质量。
7、 不产生影响清洗过程及现场卫生的泡沫和异味。
8、 清洗剂不能是易燃、易爆物，或对所需清洗的产品或设备具有某种潜在的安全威胁。
超声波清洗机频率应怎样选择：
超声空化阀值和超声波的频率有密切关系，频率越高，空化阀越高。换句话说，频率低，空化越容易产生，而且在低频情况下液体受到的压缩和稀疏作用有更长的时间间隔，使气泡在崩溃前能生长到较大的尺寸，增高空化强度，有利于清洗作用。
低频超声清洗适用于大部件表面或者污物和小型电子地磅秤清洗件表面结合度高的场合。
但不适宜易腐蚀清洗件表面，清洗表面光洁度高的部件，且空化噪音大。40KHZ左右的频率，在相同声强下，产生的空化泡数量比频率为20KHZ时多，穿透力较强，宜清洗表面形状复杂或有盲孔的工件；空化噪音较小，空化强度较低，适合清洗污物与被清洗件表面结合力较弱的场合。高频超声清洗适用于计算机，微电子组件的精细清洗；兆赫超声清洗适用于集成电路芯片、硅片及波薄膜的清洗，能去除微米、亚微米级的污物而对清洗件没有任何损伤。因此从清洗效果及经济性考虑，频率一般选择在20—130KHZ范围，当然正确选择频率至关重要。
超声波清洗机是利用高于20KHZ的超音频信号，通过换能器转换成高频机械振荡而传入清洗液中，超声波在清洗液中疏密相间地向前辐射，使液体流动并产生数以万计的微小气泡，这些气泡是在超声波纵向传播形成的负压区形成生长，而在正压区迅速闭合，这些气泡的形成生长及迅速闭合被称为空化现象，在空化现象中这些气泡的闭合形成超过1000个大气压的瞬间高压，连续不断的瞬时高压就像一连串小的“爆炸”，连续不断地撞击物体表面及缝隙，使其中的污垢迅速剥落，达到迅速清洗的效果。
单槽式超声波清洗机，采用九十年代先进的超声波技术及名牌厂家电子元器件。产品具有整机结构合理，清洗工艺先进，工作稳定可靠，工作效率高等特点，运用于要求清洁度高的精密工件的清洁。
