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原理:玻璃垂直放置在架子上,送入10-1帕数量级的真空环境中,通入适量的工艺气体(惰性气体Ar或反应气体O2、N2),并保持真空度稳定。将靶材Ag、Si等嵌入阴极,并在与阴极垂直的水平方向置入磁场从而构成磁控靶。以磁控靶为阴极,加上直流或交流电源,在高电压的作用下,工艺气体发生电离,形成等离子体。其中,电子在电场和磁场的共同作用下,进行高速螺旋运动,碰撞气体分子,产生更多的正离子和电子;正离子在电场的作用下,达到一定的能量后撞击阴极靶材,被溅射出的靶材沉积在玻璃基片上形成薄膜。为了形成均匀一致的膜层,阴极靶靠近玻璃表面来回移动。为了取得多层膜,必须使用多个阴极,每一个阴极均是在玻璃表面来回移动,形成一定的膜厚。
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VARIAN TV551涡轮分子泵的应用范围包括高能物理和研究、纳米技术、质谱技术、工业真空加工和半导体,并可用作扫描电子显微镜 (SEM) 的专用泵。帕纳光电秉承'专心专业全心全意尽善尽美',竭诚为光学镀膜行业,光磁存储行业,半导体生产行业,平板及光电显示器行业,分析仪器及科研行业提供优质的瓦里安Varian TV551分子泵维修服务。
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Pfeiffer 分子泵组应用于脉冲激光沉积系统
脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition, PLD),是一种利用激光对物体进行轰击,然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上, 得到沉淀或者薄膜的一种手段. PLD 系统由多个真空腔体组成,整个系统需要超高真空且不能引入任何杂质,对环境的清洁度要求较高,必须配备无油干泵和分子泵抽真空。由于各个辅助腔体体积较小, 因此特别适合使用pfeiffer Hicube 系列分子泵组. 帕纳光电科技有限公司销售维修的 Pfeiffer 分子泵组因其结构紧凑体积小,清洁无油(前级泵配备干泵)、抽速快、极限真空度高达10-11mbar等优点一经上市好评如潮。