由于目前对真空镀膜设备的清洁度,镀膜层的质量,所用材料等要求的不断提高,传统的以油扩散泵为主的真空系统因油蒸汽污染的原因,已经无法满足使用要求。因此,以分子泵为主的无油真空镀膜系统已逐渐成为市场的主流。Pfeiffer 分子泵依靠自身过硬技术在全球分子泵领域一直处于主导地位。
镀膜原理:PVD即物理气相沉积,是当前国际上广泛应用的先进的表面处理技术。在真空条件下,利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化,在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上。它具有沉积速度快和表面清洁的特点,特别具有膜层附着力强、绕性好、可镀材料广泛等优点。PVD镀膜技术广泛应用于电子产品 门窗五金、厨卫五金、灯具、海上用品、首饰、工艺品,及其它装饰性制品的加工制造。
Pfeiffer 真空泵使用特点
德国普发Pfeiffer旋片泵+罗茨泵组+分子泵为最佳组合,旋片泵作为前级泵,抽速稳定,噪音低;罗茨泵真空腔室为无油泵,无需冷却水,有气体安全阀,防止抽气量过大前级旋片泵来不及抽导致的损坏;Pfeiffer分子泵为无油泵,从而保持真空腔室内的清洁,不会反油到腔室内,导致工件污染。