镀膜原理:PVD即物理气相沉积,是当前国际上广泛应用的先进的表面处理技术。在真空条件下,利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化,在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上。它具有沉积速度快和表面清洁的特点,特别具有膜层附着力强、绕性好、可镀材料广泛等优点。PVD镀膜技术广泛应用于电子产品 门窗五金、厨卫五金、灯具、海上用品、首饰、工艺品,及其它装饰性制品的加工制造。
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Pfeiffer 分子泵在LOW-E(低辐射玻璃)生产线中的应用
LOW-E全名Low emissivity,是低辐射镀膜玻璃。相对热反射玻璃而言是一种新型节能玻璃。目前国际上普遍采用真空磁控溅射镀膜技术(离线法)生产Low-E玻璃。帕纳光电科技有限公司销售的德国普发 Pfeiffer 分子泵成功应用于此。