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镀膜原理：PVD即物理气相沉积，是当前国际上广泛应用的先进的表面处理技术。在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上。它具有沉积速度快和表面清洁的特点，特别具有膜层附着力强、绕性好、可镀材料广泛等优点。PVD镀膜技术广泛应用于电子产品 门窗五金、厨卫五金、灯具、海上用品、首饰、工艺品，及其它装饰性制品的加工制造。
在抽吸反应性气体时，气体在泵内遭到压缩、压力增高，若残余气体成分中水分增加或气体温度遇冷处降低，其固体生成物会在泵内的间隙处堆积。在转子高速旋转过程中，这些堆积的固体生成物会与回转体的部分或接触或粘结其上。在这种情况下，运动的叶片就会遭到损坏
子泵机组 TSH/U 261 应用领域:
1. 研发 2. 加速器 3. 分析和表面物理 4. 真空工艺技术
5. 电子束焊接 6. 检漏设备
分子泵机组 TSH/U 261产品规格：
