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Pfeiffer 分子泵优点:
? 多抽速供客户选择,抽速为1,000至2,000L/S
? 对于H2,He和Ar,CF4有高的抽速
? 安装位置从0到90度,90到180度
? 高的气体流通量,即使是Ar,CF4
? 集成的TC 1200驱动单元可直接连接电源
? 抗腐蚀能力供选择
? 丰富的接口界面:RS-485以及远程控制;profibus或者Devicenet可供选择
? 拥有IP 54和Semi S2 等级
? 稳定安全的转子轴承系统
? 符合UL,CSA以及TUV认证
? 简单的安装
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Pfeiffer 分子泵组应用于脉冲激光沉积系统
脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition, PLD),是一种利用激光对物体进行轰击,然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上, 得到沉淀或者薄膜的一种手段. PLD 系统由多个真空腔体组成,整个系统需要超高真空且不能引入任何杂质,对环境的清洁度要求较高,必须配备无油干泵和分子泵抽真空。由于各个辅助腔体体积较小, 因此特别适合使用pfeiffer Hicube 系列分子泵组. 帕纳光电科技有限公司销售维修的 Pfeiffer 分子泵组因其结构紧凑体积小,清洁无油(前级泵配备干泵)、抽速快、极限真空度高达10-11mbar等优点一经上市好评如潮。