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件 库存4294967295件
独特优势 :
1.超高分辨率
a.超薄氮化硅膜(25-50nm)
b.分辨率优于10nm 精确度、
2.灵敏度高
a.四电极形成反馈控制系统,控温准
b.观测区域全覆盖,升温快且均匀
3.稳定好
a.科学设计,漂移率最小化
b.样品台与芯片匹配良好,芯片不漂移
原位程序升温反应系统参数指标表:
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样品台尺寸 |
φ50×50mm |
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温度范围 |
rt~1000℃ |
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适用样品 |
静态&流体气、液环境,固体 |
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气体压强 |
0-2000mbar |
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分辨率 |
优于10nm |
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窗口膜厚 |
25~50nm |
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液体池厚度 |
200~2000nm |
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温度精度 |
±0.1k |
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加热均匀 |
≥99.5% |
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加热电极数 |
4 |
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安全 |
100% |
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漂移率 |
<0.5nm/min |
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旋转角度 |
±180° |
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适用电镜 |
zeiss,fei,jeol,hitachi,others |
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inlens/ebsd |
√ |
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eds/wds |
√ |
应用领域 :
1.气体环境加热 :热催化、 水汽重整 、石油裂解 、煤制油 、合成氨
2.液体环境加热 :纳米催化剂合成、 温致反应过程 、溶剂热过程
3.固体直接加热 :ebsd原位分析 、金属材料 、石油地质岩石矿物、 化工高
分子材料 、新能源电池材料 、半导体
更多访问;
http://www.chip-nova.com.cn/sonlist-1688745.html
http://www.chem17.com/st384871/erlist_1688745.html
